DMD無掩膜光刻機

DMD無掩膜光刻機無需制造掩膜，采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù)，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達1mm′0.6mm，曝光時間僅需1s。結合電動移動平臺，可實現(xiàn)曝光拼接，分辨率可達到3mm。可通過公司編寫的軟件完成詳細設定，使操作簡潔方便。

DMD無掩膜光刻機與傳統(tǒng)的光刻機不同，AU-PALET光刻機采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術，無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件，直接進行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù)，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源，相對于其它的光源，擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達到1mm′0.6mm，結合電動平移臺可實現(xiàn)曝光拼接，可達到更大的曝光面積。可通過公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設定，操作簡潔方便。

設備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種。

①  AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機。本裝置采用375nm的LED光源，實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光，并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命。采用10′的物鏡曝光面積達到1mm′0.6mm，光刻分辨率達到5mm，并在10s 內(nèi)完成曝光。

②

②AU-PALET-_new 是AU-PALET的升級版本，在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源，采用10′的物鏡曝光面積達到1mm′0.6mm，光刻分辨率達到3mm，并在1s 內(nèi)完成曝光。

u  主要特點

• 高速度（1s）

• 廣范圍（1′0.6mm）

• 365nm LED光源

• 高分辨率 （3mm）

• 成本低

u  主要應用

磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成

傳感器，半導體器件的制作

MEMS器件的試制、

光電子，LED的試制

微流體器件的試制

掩膜版制作

細胞分離通道等的制作

光波導路的制作

主要參數(shù)