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原位薄膜厚度測量儀

簡要描述：原位薄膜厚度測量儀-MPROBE 50 INSITU-昊量用于測量薄膜厚度和 n&k（光學(xué)常數(shù)）的實(shí)時光學(xué)測量儀。該系統(tǒng)可以在高環(huán)境光下工作，因?yàn)樗褂瞄T控?cái)?shù)據(jù)采集。

產(chǎn)品型號：MPROBE 50 INSITU

廠商性質(zhì)：代理商

更新時間：2022-04-13

訪問量：2244

品牌	其他品牌	價格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,綜合
原位薄膜厚度測量儀	MPROBE 50 INSITU

原位薄膜厚度測量儀

<strong>原位薄膜厚度測量儀</strong>-MPROBE 50 INSITU

原位薄膜厚度測量儀用于測量薄膜厚度和 n&k（光學(xué)常數(shù)）的實(shí)時光學(xué)測量儀。該系統(tǒng)可以在高環(huán)境光下工作，因?yàn)樗褂瞄T控?cái)?shù)據(jù)采集，使用高強(qiáng)度閃光氙燈在寬帶 ( UV-NIR) 波長范圍內(nèi)進(jìn)行精確測量。MProbe 50 系統(tǒng)是*可定制的，以支持不同的真空室幾何形狀。根據(jù)可用的光學(xué)端口，可以使用斜入射或垂直入射。光可以聚焦在樣品表面或準(zhǔn)直。反射探頭可以放置在沉積室光學(xué)端口的外部或內(nèi)部（使用光纖饋通）。MProbe 50 系統(tǒng)沒有活動部件。典型測量時間~10ms。可以快速可靠地測量任何半透明薄膜。

優(yōu)勢：

1.原位薄膜厚度和 n&k 測量

2.用于高環(huán)境光環(huán)境下測量的門控?cái)?shù)據(jù)采集

3.材料：500+ 擴(kuò)展材料數(shù)據(jù)庫

4.連續(xù)、快速和可靠的測量

5.靈活的配置——*定制以匹配沉積室的幾何形狀

選型列表：

MProbe50	波長范圍	厚度范圍
VIS	400nm -1100nm	15nm – 20 μm
HRVIS	700nm-1000nm	1μm-400μm
NIR	900nm-1700nm	100nm – 200μm
UVVisF	200nm -900nm	1nm – 20μm
UVVISNIR	200nm-1700nm	1nm -200μm
XT	1590nm -1650nm	10μm-1mm

關(guān)于昊量光電：

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上海昊量光電設(shè)備有限公司專注于光電領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)和產(chǎn)品銷售。致力于引進(jìn)國外優(yōu)質(zhì)的光電器件制造商的技術(shù)與產(chǎn)品，為國內(nèi)客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)。我們力爭在原產(chǎn)廠商與客戶之間搭建起溝通的橋梁與合作的平臺。

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